大家都知道鍍膜玻璃的生產(chǎn)方法很多，主要有真空磁控濺射法、真空蒸發(fā)法、化學(xué)氣相沉積法以及溶膠-凝膠法等。今天來講講鍍膜方法的其中一種："真空磁控濺射法"。

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真空鍍膜，是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。

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真空玻璃又可以分為蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍等

蒸發(fā)鍍膜：是通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面

濺射鍍膜：是用高能粒子轟擊固體表面時(shí)能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面

離子鍍：蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面

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真空鍍膜特點(diǎn)：

蒸發(fā)鍍膜：其特點(diǎn)是在真空條件下，材料蒸發(fā)并在玻璃表面上凝結(jié)成膜，再經(jīng)高溫?zé)崽幚砗螅诓ＡП砻嫘纬筛街軓?qiáng)的膜層。蒸發(fā)鍍膜與其他真空鍍膜方法相比，具有較高的沉積速率，可鍍制單質(zhì)和不易熱分解的化合物膜。

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濺射鍍膜：“濺射”是指荷能粒子轟擊固體表面（靶），使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。射出的粒子大多呈原子狀態(tài)，常稱為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子，離子或中性粒子，因?yàn)殡x子在電場下易于加速獲得所需要?jiǎng)幽?，因此大都采用離子作為轟擊粒子。

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離子鍍：將蒸發(fā)法與濺射法相結(jié)合，即為離子鍍。這種方法的優(yōu)點(diǎn)是得到的膜與基板間有極強(qiáng)的附著力，有較高的沉積速率，膜的密度高。